投资者提问：
请问贵公司控股子公司在建设的光刻胶项目是用于半导体还是LCD?可否具体描述一下具体是多少纳米?项目预计何时能进入试生产阶段?
董秘回答(七彩化学SZ300758)：
您好，公司计划年底投产，主要用紫外正型光刻胶产品，此类正性光刻胶在使用时的曝光波长为300-450 nm，曝光波长越短，成像分辨率越高。此类光刻胶的图形特征尺寸最小可达到200纳米。其主要对应显示器、封装OLED，第三代半导体等。本项目正在建设阶段，能否达到预期水平，存在不确定性，请投资者注意风险。
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作者：佚名
